Druckmessung

• Produktivitätssteigerung und Kosteneinsparungen durch genaue Druckmessungen
  • Hohe Genauigkeit
  • Ausgezeichnete Reproduzierbarkeit
• Einfache Implementierung mit wenig Aufwand
  • Breites Spektrum an Prozessanschlüssen
  • Produkte speziell für Hygiene, Industrie und Bahn
• Prozesssicherheit und effizienter Betrieb
  • Zertifiziertes Hygiene-Design, robust, abrasions- und chemikalienbeständig
  • Reinigbar an Ort und Stelle (Cleaning In Place, CIP)
  • Sterilisierbar an Ort und Stelle (Sterilisation In Place, SIP)

• Prozessdruckmessung in der Mess- und Regelungstechnik
• Überwachung  von Systemdrücken in Flüssigkeiten und Gasen, z. B. zur Leckageerkennung
• Druckregelung zur Leistungssteuerung von Pumpen
• Indirektes Messen von Prozessgrössen wie Füllstand, Dichte, Durchfluss oder Dampftemperatur
• Vakuumregelung bei Entgasern

Resistive Druckmessung (Keramik-Dickschicht- und Metall-Dünnfilm-Technologie)
Bei der Keramik-Dickschicht- und der Metall-Dünnfilm-Technologie werden vier Widerstände zu einer Wheat stone’schen Brücke verschaltet. In der Mitte der Membrane erfahren die Widerstände unter Druckbeaufschlagung die höchste Dehnung, in den Randbereichen die grösste Stauchung. Bei Keramik- und Dünnfilmzellen ist die Messmembran gleichzeitig die Trennmembran zum- Medium. Es wird keine interne Übertragungsflüssigkeit benötigt.

Piezoresistive Druckmessung (Silizium-Halbleiter)
Die Veränderung des spezifischen Widerstandes und somit des Signals ergibt sich bei Halbleitermaterialien aus der veränderlichen Beweglichkeit der Elektronen in der kristallinen Struktur. Die Beweglichkeit wird durch die mechanische Belastung beeinflusst. Über eine Edelstahlmembran (Kapselung) erfolgt die Trennung zwischen dem empfindlichen Silizium-Chip und dem Prozessmedium. Zur internen Druckübertragung dient als Übertragungsflüssigkeit je nach Applikation Paraffin- oder Silikonöl.