Misurazione della pressione

• Aumento della produttività e risparmi sui costi grazie a misurazioni accurate della pressione
  • Elevata accuratezza
  • Straordinaria ripetibilità
• Semplice implementazione a basso costo
  • Ampia gamma di raccordi di processo
  • Prodotti specifici per l’igiene, l’industria e le ferrovie
• Sicurezza di processo e funzionamento efficiente
  • Design igienico certificato, robusto, resistente all’abrasione e alle sostanze chimiche
  • Pulibile in loco (Cleaning In Place, CIP)
  • Sterilizzabile in loco (Sterilisation In Place, SIP)
• Valore aggiunto grazie ai dati digitali del sensore
  • Messa in servizio semplice e veloce grazie all’interfaccia digitale IO-Link
  • Soluzioni con IO-Link Dual Channel per la massima flessibilità di processo
  • Dati aggiuntivi grazie al collegamento digitale del sensore

• Misurazione della pressione di processo con tecnologia di misurazione e regolazione
• Monitoraggio  delle pressioni di sistema in liquidi e gas, ad es. per il rilevamento perdite
• Regolazione della pressione per il controllo potenza delle pompe
• Misurazione indiretta delle grandezze di processo come il livello, la densità, il flusso o la temperatura del vapore
• Regolazione del vuoto per degasatori

Misurazione resistiva della pressione (tecnologia a film spesso di ceramica e a film sottile di metallo)
Nella tecnologia a film spesso di ceramica e in quella a film sottile di metallo si collegano quattro resistenze a formare un ponte di Wheatstone. Sollecitate dalla pressione, le resistenze subiscono la massima dilatazione al centro della membrana e la massima compressione ai bordi. Nelle celle di ceramica e a film sottile la membrana di misurazione è allo stesso tempo anche membrana di separazione dal fluido. Non è necessario, quindi, un fluido di trasmissione interno.

Misurazione piezoresistiva della pressione (semiconduttore di silicio)
Nei materiali semiconduttori la variazione della resistenza specifica e quindi del segnale è data dalla mobilità variabile degli elettroni nella struttura cristallina. Questa mobilità subisce l’influsso della sollecitazione meccanica. Una membrana di acciaio inox (incapsulamento) separa il sensibile chip di silicio dal fluido di processo. Per la trasmissione interna di pressione, come fluido di trasmissione si utilizza olio di paraffina o di silicone in funzione della rispettiva applicazione.